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硅晶圓的生產清洗用水主要應用的是超純水設備所產出的超純水，該設備主要采用的工藝為預處理+反滲透+EDI模塊組合形式。整體工藝具有高效低能、運行成本低，水資源利用率高、運行時間長等優勢。...
超純水設備可連續，穩定地生產高純度的超純水，無須因樹脂再生而停機。整個設備搭載了PLC智能化程序，能靈活方便地進行操作，節省了人力投入，并采用新型材料對管道表面進行處理，保證系統運行無污染物析出，...
超純水系統是一種用于制備超純水的設備和技術。超純水是指水中不含任何雜質，包括離子、有機物、微生物等。這種水平對于電子芯片制造和實驗室研究來說是至關重要的。...
超純水設備采用了雙級反滲透系統+EDI模塊的處理工藝，出水電阻率可達16 MΩ*cm(25℃)。這種水中除了氫原子和氧原子之外，基本不含有任何其他物質，比普通純凈水水質更高，并且是一種非飲用水。...
超純水設備采用了獨有的靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，PLC智能化程序能靈活進行操作。...
芯片生產中使用的超純水系統內部還安置的反滲透預脫鹽技術，從根本上保障了超純水出水水質，不會對環境造成污染，對于保護環境來說有著重要的意義。...
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